कमरे के तापमान पर, n-प्रकार Si नमूना नीचे एक छोर पर ओमिक संपर्क और दूसरे पर एक परावर्ती परिसीमा के रूप में दिखाया गया है। यह ND = 5 × 1016 cm-3 के साथ अपमिश्रित किया गया है। \(\rm μ _e= 1600 \frac{cm^2}{V-sec} , μ _h = 600 \frac{cm^2}{V-sec} \) और अल्पसंख्यक वाहक विसरण लंबाई 50μm है।

यह नमूना निरंतर, निम्न-स्तरीय प्रदीपन के साथ उत्तेजित है जो नीचे अतिरिक्त अल्पसंख्यक वाहक प्रोफ़ाइल बना रहा है

कुल छिद्र धारा घनत्व Jh(x) क्या है?

1
\(\rm 4.8 \times 10^{-5} \left[ u(x) - u(x - 5 \times 10^{-4}) \right] \ \frac{A}{cm^2}\)
2
\(\rm -4.8 \times 10^{-5} \left[ u(x) - u(x - 5 \times 10^{-4}) \right] \ \frac{A}{cm^2}\)
3
\(\rm 1.2 \times 10^{-5} \left[ u(x) \right] \ \frac{A}{cm^2}\)
4
\(\rm -1.2 \times 10^{-5} \left[ u(x) \right] \ \frac{A}{cm^2}\)

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