IC में सिलिकॉन डाइऑक्साइड का उपयोग किया जाता है _______________।
1
क्योंकि यह डिफ्यूरेंट्स के वेधन की सुविधा प्रदान करता है
2
इसकी उच्च ऊष्मा चालन के कारण
3
प्रसार के स्थान को नियंत्रित करने और सतह की रक्षा और विद्युत रोधी बनाने के लिए किया जाता है
4
डिफ्यूरेंट्स की सांद्रता को नियंत्रित करने के लिए